什么是光刻机？什么是光罩对准器(光罩对准器是做什么用的？什么是硅光子技术？马斯卡里纳是什么意思？掩模对准器1的作用。光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统和光刻系统，是制造芯片的核心设备，光刻的原理是在硅片表面覆盖一层高感光的光刻胶，然后通过掩膜板用光(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)照射硅片表面，被光照射的光刻胶就会发生反应。
1、硅片制作的工艺流程
硅片等级:MGSi→SeGSi→SoGSi精炼经过以下过程:石英砂→冶金级硅→精炼精炼→沉积多晶硅锭→单晶硅→切割硅片。冶金级硅镁硅精炼硅的原料是二氧化硅，主要由砂组成。目前二氧化硅的结晶岩，即石灰石，在大型电弧炉中用碳还原:定期将二氧化硅2C→二氧化硅2CO倒出炉外，用氧气和氯气的混合气体净化，然后倒入浅槽中，在槽中凝固，再捣成块状。
MGSi转化为挥发性化合物，然后通过分馏进行冷凝和提纯。工艺方案:用Hcl将细碎的MGSi变成流体，用催化剂加速反应:Si3HCl → Si3H2 MGSi → SiHcl3硅胶工业原料提取MGSi，加热混合气体可被H2还原，硅作为细晶多晶硅沉积在电加热棒上，如右图:SiHcl3 H2→Si 3HclSeGSi提纯到SoGSi熔化SeGSi多晶硅，同时加入器件所需的微量掺杂剂，一般为硼(P型掺杂剂)。
2、光刻用硅片不用石英的原因
应时(SiO)材料乍一看像玻璃，但更特别的是，普通玻璃是由许多成分组成的(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸钡、石灰石、长石、纯碱等。)，而应时只含有SiO成分，其微观结构是由二氧化硅四边结构单元组成的简单网络。由于应时中含有大量金属杂质，其性能不如硅片稳定。光刻的原理是在硅片表面覆盖一层高感光的光刻胶，然后通过掩膜板用光(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)照射硅片表面，被光照射的光刻胶就会发生反应。
3、光刻机是什么?造一台有多难?
很难。因为光刻机是芯片制造机，需要在很小的面积上集成上千个二极管，所以制造难度很大。光刻机是制造芯片的核心设备。通过使用类似于照片印刷的技术，掩模上的精细图案通过曝光印刷在硅片上。目前光罩光刻机只是光罩光刻机中最好的，荷兰的，还有很多问题很难克服，所以造轻型客机的难度很大。掩模对准器使用特殊的紫外线来制作芯片。其实事情并不复杂，关键是技术需要极其精密，所以造这样的机器非常困难。
光刻机是制造集成电路非常重要的设备，尤其是现在市面上的芯片大部分都属于电子芯片。当电子芯片的工艺小于一定尺寸时，就必须依靠光刻机来做芯片，也就是说，没有光刻机，就没有办法做出顶级芯片，比如市面上的7nm芯片、5nm芯片。而且芯片在生活中很重要，比如电脑、手机等电子产品都少不了。掩模光刻机的制造难度和掩模光刻机的制造难度可以用荷兰ASML公司的一句话来表达。对方说就算把光刻机的图纸拿出来，我们也不能制造光刻机。
4、光刻机是什么意思光刻机的作用
1、MaskAligner又称:掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。，是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。2.制作集成电路的简单步骤:用模板去除晶圆表面的保护膜。将晶片浸入腐蚀剂中，腐蚀掉没有保护膜的部分，形成电路。用纯水清洗残留在晶片表面的杂质。
5、什么是硅光子技术呀?
光子集成电路(Photonic integrated circuit)是一种新技术，它将有源和无源光子电路与电子元件集成在基于晶体半导体晶片的单个微芯片上。硅光子技术是一种可扩展的光收发器技术，它使用标准硅来练习计算机和其他电子设备之间光信息的传输和接收。与借助普通硅材料的晶体管不同，从事光通信的MACOM等人一直在实践细线光刻的硅微光子技术。硅光子学是一种基于硅光子学的低成本高速光通信技术。激光束被用来传输数据，而不是电子信号。英特尔实验室通过采用混合硅激光技术的集成激光器，首次实现了基于硅光子学的数据连接。
与晶体管主要依赖普通硅材料不同，硅光子技术使用的基本材料是玻璃。因为光对玻璃是透明的，不会有干扰，所以理论上可以通过在玻璃中集成光波导通道来传输信号，非常适合计算机和多核之间的大规模通信。硅光子技术最大的优势在于传输速率高，可以使处理器核之间的数据传输速度达到目前的100倍甚至更高。
6、什么是光刻机(光刻机是干什么用的?
光刻机是制造MEMS、光电和二极管LSI的关键设备。可分为两种:一种是与图形大小相同的接触式光刻机，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影仪原理的步进机，获得比模板更小的曝光图案。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大。世界上只有几家公司能制造它。制作集成电路的简单步骤:用模板去除晶片表面的保护膜。
用纯水清洗残留在晶片表面的杂质。其中，曝光机是利用紫外线透过模板去除晶圆表面保护膜的设备。一片晶圆可以做几十个集成电路，根据模版曝光机分为两种:模版和晶圆一样大，模版不动。模板与集成电路大小相同，模板随曝光机聚焦部分移动。其中，模板随曝光机移动的方式，模板相对于曝光机中心的位置保持不变，始终使用对焦镜头的中心部分可以获得更高的精度。
7、什么是光刻胶
光刻胶是微电子技术中微图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，极大地促进了光刻胶的研究、开发和应用。印刷工业是光致抗蚀剂应用的另一个重要领域。明斯克等人在1954年首次研究的聚乙烯基肉桂酸酯被用于印刷业，后来用于电子工业。[1]光刻胶是一种有机化合物，经过紫外光照射后，在显影液中的溶解度会发生变化。
目的在硅片制造中，光刻胶主要有两个用途:光刻胶原理和针孔成像！技术的源头，古老的相机！(1)将掩模图形转移到硅片表面顶层的光刻胶上；(2)在后续工艺中，保护底层材料(如刻蚀或离子注入阻挡层)。光刻胶分类技术复杂，品种繁多，根据其化学反应机理和显影原理，可分为阴胶和阳胶。光照后形成不溶物的是负性胶；相反，它不溶于某些溶剂，它是一种正性粘合剂，在光照后变得可溶。